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獵戶座 3100S 空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)

痕量級(jí)AMC空氣分子污染物 Ma Mb(NH3，HCL，HF等）監(jiān)測---半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用

光刻工藝潔凈室內(nèi)痕量級(jí)NH3，HCL，HF氣體的超高靈敏度、實(shí)時(shí)測量

實(shí)踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響，對(duì)很多微量污染物極為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會(huì)給半導(dǎo)體生產(chǎn)帶來極大的危害，盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)減少了長時(shí)間持續(xù)實(shí)時(shí)監(jiān)測，而實(shí)際上空氣分子污染（AMC）的實(shí)時(shí)測量對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關(guān)重要。

獵戶座3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)基于CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)連續(xù)分析儀器，將增加半導(dǎo)體器件阻抗一致性、保證更長的過濾器壽命、減少生產(chǎn)過程的停工時(shí)間。

ETG HMI（人機(jī)交互界面）軟件可以實(shí)時(shí)觀察、實(shí)時(shí)測量、實(shí)時(shí)操作對(duì)不同空間不同位置的NH3、HCL、HF進(jìn)行分析，軟件專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā)，對(duì)于深紫外光刻工藝過程中監(jiān)測與控制空氣分子污染（AMC）提供有力的支持，軟件集成了多點(diǎn)采樣（MS）控制功能，具有實(shí)時(shí)顯示數(shù)據(jù)曲線、報(bào)警、存儲(chǔ)、趨勢、歷史曲線、分析等功能。

獵戶座 3100S 系統(tǒng): 完善的空氣分子污染（AMC）監(jiān)測

實(shí)時(shí)監(jiān)測空氣分子污染（AMC）對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程極為重要。

快速監(jiān)測、報(bào)警、極低濃度測量、寬測量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。

深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸類等濃度測量，當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng)時(shí)，將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

傳統(tǒng)古老的方法多采用間接測量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學(xué)熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過程太復(fù)雜，昂貴并且測量結(jié)果不精確。

ETG采用被證明的CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)解決AMC（空氣分子污染物）監(jiān)測難題，可快速測量痕量級(jí)NH3、HCL、HF，采用脈沖熒光法測量SO2，采用增強(qiáng)型GC-FID測量VOCs。

獵戶座 3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)測量痕量級(jí)NH3、HCL、HF并集成了uVOC-CAM特性，是半導(dǎo)體行業(yè)潔凈室AMC（空氣分子污染）測量的有力工具。

獵戶座 3100S也集成了多點(diǎn)監(jiān)測系統(tǒng)，可依序將氣體抽送到分析儀或傳感器，并讀出測量結(jié)果。獵戶座 3100S內(nèi)嵌的報(bào)警、報(bào)告、分析軟件是由多年半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)驗(yàn)的工程師集體開發(fā)。

獵戶座 3100S使用Ethernet、RS485/RS232或4-20mA模擬模塊可以輸出來自4~6臺(tái)分析儀或傳感器的數(shù)據(jù)。

每臺(tái)分析儀配有內(nèi)置計(jì)算機(jī)（Linux OS），可進(jìn)行數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和數(shù)據(jù)輸出，還支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制，通過互聯(lián)網(wǎng)可以連接ETG公司總部或者當(dāng)?shù)亟?jīng)銷商服務(wù)商，進(jìn)行操作或者診斷。

使用者可以通過網(wǎng)絡(luò)瀏覽器比如IE、Chrome等世界任意可以聯(lián)網(wǎng)的地方進(jìn)行操作，遠(yuǎn)程操作可實(shí)現(xiàn)多級(jí)管理權(quán)限控制和操作。

獵戶座 3100S系統(tǒng)配置

增強(qiáng)靈敏度

儀器基于CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)，極簡使用、便捷操作，所有部件（包括內(nèi)置真空泵、鍵盤、鼠標(biāo)、顯示器等）幾分鐘內(nèi)可開始記錄數(shù)據(jù)，其他大氣中的水汽、CO2、O2、甲烷等不會(huì)對(duì)HCL、HF、NH3等測量構(gòu)成交叉干擾。內(nèi)置計(jì)算機(jī)可以存儲(chǔ)大量數(shù)據(jù)到內(nèi)置硬盤上，可同過數(shù)字接口或者模擬接口傳輸數(shù)據(jù)，可通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程存儲(chǔ)或記錄數(shù)據(jù)，高質(zhì)量的數(shù)據(jù)庫，適合于苛刻的半導(dǎo)體痕量級(jí)氣體應(yīng)用。

檢測限/精度 (1-σ) : HCl 0.1 ppb

HF 0.1 ppb

NH3 < 0.1 ppb

快速響應(yīng)時(shí)間

每個(gè)通道5秒

系統(tǒng)即插即用

系統(tǒng)可在潔凈間幾分鐘內(nèi)簡單操作完成

低成本

因CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）系統(tǒng)不需要特別的維護(hù)保養(yǎng)和備品備件，所以很好的降低了使用者成本。

CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）---原理

基于CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)的儀器原理圖，使用近紅外波段光進(jìn)行高靈敏度吸收測量，測量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構(gòu)成，激光束經(jīng)過固態(tài)校準(zhǔn)器（FSR=2.00GHz）時(shí)會(huì)測量得到相對(duì)激光波長。為了保證清晰度，忽略了原本照射到左側(cè)測量單元腔鏡外的光束。

EP增強(qiáng)型版本集成了壓力傳感器和內(nèi)部溫度控制器，具有超穩(wěn)定性測量腔室，防止溫度漂移、壓力變化等造成的誤差。

CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）相比于**代的CRDS（腔衰蕩光譜）技術(shù)，有許多已被證明的優(yōu)勢。簡而言之，激光束不需要共振耦合進(jìn)入測量腔室（例如光束不需要嚴(yán)格對(duì)準(zhǔn)）。ETG分析儀器和系統(tǒng)具有天生安裝簡單、機(jī)械牢固、防護(hù)結(jié)實(shí)等特點(diǎn)。

獵戶座 3100S的特性

· sub-ppb級(jí)實(shí)時(shí)測量

· CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）原理

· 苛刻危險(xiǎn)環(huán)境下可連續(xù)無人值守測量

· 無試劑、無放射源、無紙帶消耗、無吸收管或者其他耗材

· 長期穩(wěn)定性和可靠性

· 固態(tài)電子器件無可移動(dòng)部件

· 低維護(hù)量、長免維護(hù)期

· 出廠標(biāo)定

· 單組份/多組份痕量級(jí)氣體測量

· 4~64通道多點(diǎn)采樣

· 獨(dú)立可編程報(bào)警、繼電器設(shè)置

· 可獨(dú)立編程采樣點(diǎn)順序和吹掃通道

· 開放的通訊協(xié)議，便于二次開發(fā)與集成

· 電源斷電或者斷閘，數(shù)據(jù)無丟失

· 觸摸屏允許數(shù)據(jù)顯示、表格顯示、曲線顯示等

· ? “外徑接口

· 管線：PFA， PVDF

· 距離采樣點(diǎn)*長管線：80m

· 盤裝彩色液晶顯示器

· 可遠(yuǎn)程操作或可視化操作。

· 任意的運(yùn)載工具

· 輸出信號(hào)：標(biāo)配 : RS232 ， 可選 : 4-20 mA， Modbus

· 供電 : 115-230 Vac 50/60 Hz

· 校準(zhǔn)報(bào)告

· 通過采樣器或者快速回路泵采樣