粉體行業(yè)在線(xiàn)展覽
Agar鍍膜儀噴金儀B7341
面議
牛津
Agar鍍膜儀噴金儀B7341
4052
【技術(shù)參數(shù)】
樣品室玻璃腔體尺寸 | 120mm ? x 120mm H,高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)(可選150mm x 165mm) |
樣品臺(tái)尺寸 | 可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)釘形樣品臺(tái),高度可在 60mm內(nèi)調(diào)節(jié) |
濺射頭 | 低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 |
濺射靶材 | 金(標(biāo)配),鉑,金/鈀,鉑/鈀, 銀等 |
靶材尺寸 | 直徑57mm x 0.1mm 厚度 |
濺射控制系統(tǒng) | 微處理器控制,遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng);**電流40mA,程序化數(shù)字控制; 提供真空安全聯(lián)鎖裝置,配有過(guò)流保護(hù); |
模擬計(jì)量 | 真空 Atm - 0.001mb 電流: 0 – 50mA |
控制方式 | 自動(dòng)氣體換氣和放氣功能,帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器(0-300s) |
機(jī)械泵 | 2L/s |
工作媒介氣體 | 氬氣,純度*低99.9% |
工作電壓 | 220V, 50/60HZ |
膜厚監(jiān)控儀(選配) | 通過(guò)6MHz石英晶體進(jìn)行原位監(jiān)控,顯示納米級(jí)厚度,可精確到0.1nm |
適用配套 | Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等掃描電鏡 |
【產(chǎn)品詳情】
Agar 全自動(dòng)噴金儀(離子濺射儀)為英國(guó)進(jìn)口設(shè)備,操作簡(jiǎn)單,適用于掃描電鏡樣品制備,可噴金、鉑、金/鈀、鉑/鈀、銀等。
噴金儀使用小貼士:
1)需要濺射噴金的樣品
a)**類(lèi)樣品是電子束敏感的樣品,主要包括生物樣品,塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量,在與樣品的相互作用過(guò)程中,它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料,那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下,用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用,防止此類(lèi)損傷;
b)另一類(lèi)樣品是非導(dǎo)電的樣品,由于樣品不導(dǎo)電,其表面帶有“電子陷阱”,這種表面上的電子積累被稱(chēng)為“充電”。為了消除荷電效應(yīng),可在樣品表面鍍一層金屬導(dǎo)電層,鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電通道,將充電電子從材料表面轉(zhuǎn)移走,消除荷電效應(yīng)。在掃描電鏡成像時(shí),濺射材料可以增加信噪比,從而獲得更好的成像質(zhì)量。
2)濺射材料
常用的濺射材料為金,導(dǎo)電性高。
噴金儀的真空度越高,所濺射的金屬顆粒越小,可以減少樣品表面形貌失真的情況。當(dāng)需要超高分辨率成像時(shí),**高真空噴金儀,同時(shí)還可以選用其他濺射材料,如:鉻,銥等,濺射的晶粒更細(xì)小。
此外,如果需要做EDS能譜分析的話(huà),建議選擇噴碳儀,因碳的X射線(xiàn)峰不會(huì)與其他元素的峰值發(fā)生沖突。
金靶材:
膜厚監(jiān)控儀:
產(chǎn)品咨詢(xún)
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