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VGF坩堝
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山東國晶新材料有限公司
山東
面議
國晶新材
1557
一、產品概述:VGF坩堝是應用于垂直梯度凝固法(VGF)技術中的一類坩堝。目前,VGF技術作為單晶生長的熱門技術,是微光電子和半導體產業生長GaAs單晶和InP單晶的良好選擇。二、主要特點:1.可制作大規格坩堝(**直徑8inch,**高度18inch);2.純度>99.99%3.使用次數多(具有優異的層間結構)。三、產品應用:應用于原位合成GaAs、InP等半導體單晶
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