粉體行業在線展覽
ED-1300C高真空蒸發鍍膜設備
面議
澤鴻半導體
ED-1300C高真空蒸發鍍膜設備
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技術特點
大腔體設計,大口徑低溫泵配置,多種功能可選(熱阻,多探頭,離子源,雙蒸發源等)整機模塊化設計,開放式設計。
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐