粉體行業(yè)在線展覽
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
面議
北京泰科諾
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
115
設備型號 :JCP350
真空腔室結構: 后置抽氣系統(tǒng),氣動提開式
真空腔室尺寸: Φ350mm×H350mm
加熱溫度 :室溫~ 500℃
基片臺尺寸 :Φ120mm
大面積平板鍍膜設備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
電阻蒸發(fā)鍍膜設備
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TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
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X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
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