粉體行業(yè)在線展覽
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHD300
面議
北京泰科諾
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHD300
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設(shè)備型號:ZHD300 鍍膜方式:多源金屬蒸發(fā)真空腔室結(jié)構(gòu):玻璃鐘罩 + 不銹鋼底座真空腔室尺寸:Φ300mm×H360mm 加熱溫度:室溫~ 250℃ 基片臺尺寸:Φ100mm 膜厚不均勻性:Φ80mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0% 蒸發(fā)源:2組金屬蒸發(fā)源控制方式:PLC + 觸摸屏控制占地面積:主機 L1100mm×W800mm 總功率:≥ 5kW 適用范圍:大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備
大面積平板鍍膜設(shè)備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP350
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP200
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐