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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP650

高真空磁控濺射鍍膜設備JCP650

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北京泰科諾科技有限公司

北京

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品牌：

北京泰科諾

型號：

高真空磁控濺射鍍膜設備JCP650

關注度：

92

產品介紹


基片臺尺寸：抽屜式：150mm×120mm 可旋轉、升降

膜厚不均勻性：≤ ±5.0%（120mmx120mm 范圍內）

濺射靶：6英寸3只

濺射靶電源：1臺RF，2臺DC

控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )

占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )

總功率：≥15kW 三相五線制


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