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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD300

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中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司

遼寧

產品規格型號

參考報價：

面議

品牌：

沈陽科學儀器

型號：

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD300

關注度：

490

產品介紹

占地面積（長x寬x高）:

約1.8米x0.97米x1.9米

電控描述:

全自動

工藝:

片內膜厚均勻性：≤±5%

產品概述：
系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。

設備用途：
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。

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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD300

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