粉體行業(yè)在線展覽
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
面議
拉普拉斯
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
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設備的應用及特點:
應用
本設備適合156-210mm硅片生產(chǎn),無傳統(tǒng)技術的搭片問題及其帶來的方阻均勻性問題,更高的方阻均勻性為客戶帶來更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能,能幫助客戶進一步提升產(chǎn)品效率和競爭力。本設備采用氣態(tài)硼源,具有耗源量低和維護要求低的特點,運營成本為傳統(tǒng)技術的1/3。本設備具有行業(yè)內(nèi)**產(chǎn)能,能幫助客戶降低固定資產(chǎn)投入和運營成本。
熱場
石英件
BHO200型超高溫氧化爐
超高溫退火爐
Bhadra?真空成型LVA400
Bhadra?立式
拉普拉斯電池間隙貼膜機
鍍膜自動上下料設備
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜設備 LPCVD LLP430
拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐