粉體行業在線展覽
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
100-150萬元
DENSsolutions 原位樣品桿
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
4125
DENSsolutions 總部位于荷蘭,專注于提供先進的原位電子顯微鏡( In-situ TEM)解決方案,致力于開發創新的實驗平臺和設備,使研究人員能夠在電子顯微鏡下模擬多種實際工作條件,從而實時觀察和分析材料的性質和行為。
DENSsolutions 系列產品在科學研究和工業領域具有廣泛的應用,研究人員可以利用這些設備進行材料結構、相變、生長過程、電化學反應等方面的原位觀察,在材料性能、催化、電化學,納米技術和材料合成等許多領域都具有廣泛的應用。
產品選型
01 Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿
Lightning Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿是 DENSsolutions 全新升級創新的原位解決方案,可以在冷卻或加熱樣品的同時,對其施加可控的電學刺激,并以原子級分辨率在透射電鏡下觀察樣品的實時動態過程。
主要性能參數
1 | 系統操控模式:冷凍&加電,加熱&加電 |
2 | 可運行的溫度范圍:≤ -160 ℃ - 800 ℃ |
3 | 冷凍方式:外置液氮罐 |
4 | 冷卻和穩定時間:≤ 60 min |
5 | 分辨率:≤ 1 ?(取決于透射電子顯微鏡配置) |
6 | 可達到的電流范圍:1 pA - 100 mA |
02 Lightning TEM 原位熱電樣品桿
Lightning 原位熱電樣品桿可在精確控制加電和加熱環境的同時觀察樣品變化的實時動態過程。Lightning 能夠在進行熱學研究的同時,在 pA 電流靈敏度下進行 I-V 測試,其搭配的 Nano-Chip 芯片能在 900 ℃ 高溫下同時實現高于 300 kV/cm 的電場,芯片擁有多種配置,能夠滿足不同的實驗要求,同時保持 TEM 的原子級分辨率成像能力。
主要性能參數
1 | 溫度范圍:RT - 1,300 °C |
2 | 可達到的電場范圍:≥ 300 kV/cm at RT/900 °C |
3 | 可達到的電流范圍:1 pA - 100 mA |
4 | 可達到的分辨率:≤ 60 pm |
5 | 分辨率:≤ 1 ?(取決于透射電子顯微鏡配置) |
6 | 漂移率:≤ 0.5 nm/min |
03 Climate TEM 原位氣相加熱
Climate 原位氣相加熱樣品桿可在在氣氛環境下同時觀察樣品在加熱時的狀態變化,能夠在 2 bar 的氣體環境中進行達 1000 ℃ 的高溫實驗,并保持 TEM 的原子分辨率,與 DENS 專有的氣體分析儀集成組合使用,可進行反應產物分析,是當前市場上**支持結構和化學信息完全動態關聯的原位系統。
同時為了滿足客戶研究蒸汽類反應物對材料的影響的實驗要求,我們設計了蒸汽發生器,能夠單獨地將蒸氣添加到任何氣體混合物中,并擁有獨立控制蒸汽參數的獨特能力,便于開展相對應的研究,為原位實驗中提供****的實驗自由度。
主要性能參數
1 | 加熱范圍:RT - 1,000 °C |
2 | 溫度穩定性:≤ ± 0.01 °C |
3 | 分辨率:≤ 100 pm(取決于透射電子顯微鏡配置) |
4 | 漂移率:≤ 0.5 nm/min |
5 | 氣體輸入管線:3 |
6 | 氣體流量范圍(標準化):0, 0.01-1 ml / min |
04 Stream TEM 原位液相加熱/加電樣品桿
Stream 原位液相加熱/加電系統為材料科學、化學和生物學中各類研究提供了全新的觀察視野。其獨特設計的 Nano-Cell 芯片使其對樣品加熱或加電時可獨立控制流速和液體厚度。
同時全新升級可集合組裝的液體供應系統 (LSS) ,引入了精準控制和可重復使用的惰性氣體吹掃能力。通過吹掃,可以迅速去除樣品中多余的液體,從而實現高分辨成像、有價值的元素分析和電子衍射。并且液體供應系統 (LSS)能夠主動測量液體流量,便于比較不同的實驗結果。此外,這意味著可以很容易地發現系統中潛在的堵塞,并迅速采取行動,能夠高效和有效地利用 TEM 機時。這些獨特的設計為原位液相實驗的原子級分辨像和高質量的 EDS、EELS 結果帶來了新的可能性。
主要性能參數
1 | 溫度范圍:RT - 100 °C |
2 | 液體模式:靜態液體、流動液體 |
3 | 液體流量測量:可測量,通過入口液體流量計 |
4 | 液體厚度控制:可控制,通過入口和出口液體壓力控制 |
5 | 可達到的分辨率 :≤ 3 ? (取決于透射電子顯微鏡配置) |
6 | 可達到的電場范圍:1 pA - 100 mA |
05 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿
Wildfire 原位加熱樣品桿旨在探索材料在極端高溫下的反應和狀態變化而設計,其優越的穩定性超越了市場上大部分的同類產品,溫度范圍**可達 1300 ℃,并在所有的方向上保證優異的溫度控制性和樣品穩定性,確保了在高溫下觀察樣品動態變化過程,且 TEM 保持**的分辨率和分析性能。
**設計的 Nano Chip 芯片和獨有的四點探針法可快速反饋溫度變化情況,從而實現即時穩定和精確的溫度控制,避免出行加熱不均勻或熱反饋不及時的問題。對于需要進行高溫下三維重構研究的客戶,可選擇配備了 α 傾轉角高達 70° 的樣品桿,以便進行多方位的研究。
主要性能參數
1 | 加熱控制:四探針法 |
2 | 溫度范圍:RT - 1,300 °C |
3 | 溫度均勻性:≥ 99.5 % |
4 | 分辨率:≤ 60 pm(取決于透射電子顯微鏡配置) |
5 | 漂移率:≤ 0.5 nm/min |
6 | 視野范圍:850 μm2 |
DENS 軟件系統:Impulse 集成軟件
Impulse 軟件讓研究人員可以完全控制實驗條件,只需在電腦上設置好所需的原位觀測實驗條件,Impulse 將完成剩下的工作。在原位 TEM 實驗期間,軟件將根據設置好的條件進行實驗驗證過程,而您只需專注于實驗結果,同時軟件上可以存儲您的實驗設計,以便重現實驗過程。
軟件特征和優勢:
01.智能自動化:在實驗過程中,您可以專注于其他事情,而智能自動化會跟蹤測量結果并確保滿足所設置的樣品條件。
02.靈活的數據儀表板:Impulse 在排列和調整圖表大小方面為您提供了極大的靈活性,可輕松掌握任何數據細節。
03數據整合:軟件支持將您的原位環境條件實驗數據與其他數據同步,并在幾秒鐘內為您的相機和探測器圖像提供環境條件注釋。
04.實驗自由:Impulse 軟件支持您使用自己創建的 Python 腳本進行獨特的實驗控制。您可以選擇創建自己的腳本,或者使用我們的預制腳本,甚至可以在線訪問數千個 Python 模塊。這種實驗自由將使您能夠擴展研究范圍并開展您的創造性實驗控制。
全新升級的 FIB 樣品臺
DENSsolutions 現在推出了第三代 FIB 制樣樣品臺,此設備可以幫助您更簡單、更安全、更快捷地制備薄片樣品,且適配 DENS 樣品桿芯片。
Pharos-STEM
Phenom Pharos
Neoscan N90
Phenom XL
Phenom Pro
ParticleMetric
ParticleX
VSP-G1
N80
N70
N60
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐