粉體行業在線展覽
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
面議
北京泰科諾
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
112
設備名稱:多功能磁控離子濺射復合鍍膜設備
設備型號:TSU650
真空腔室結構:立式圓柱形前開門,雙層水冷,多通用法蘭接口
真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm
工件架尺寸:Φ490mm,4-6 工位公 / 自轉工件架
工件架烘烤溫度:室溫~ 500±5℃,可調可控(PID 控溫)
工件架運動方式:公轉 0-5RPM 可調
輔助離子源:偏壓、線性離子源輔助(可選)
陰極:矩形磁控靶、柱狀靶、平面弧源、磁過濾弧源(可選) 國產或進口靶、或電源可選
控制方式:PLC 控制 / 工控機全自動控制可選
占地面積:主機 L2800mm×W1200mm×H1950mm
總功率:≥ 60kW
選購件:基片臺加熱系統、循環水機、膜厚控制系統等
大面積平板鍍膜設備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
電阻蒸發鍍膜設備
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200