粉體行業(yè)在線展覽
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
面議
北京泰科諾
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
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設(shè)備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設(shè)備
設(shè)備型號:HF700
真空腔室結(jié)構(gòu):立式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷
真空腔室尺寸:Φ700mmxH700mm
真空系統(tǒng):高真空泵組系統(tǒng)
基片臺尺寸:350mm2×350mm2 方形基片臺(旋轉(zhuǎn)、升降可選)
襯底溫度:600 ~ 1100℃
大面積平板鍍膜設(shè)備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī)TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP350
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP200
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)