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**、產品簡介：

韓國CTS公司的AP200型CMP拋光機是一款科研級的CMP系統，采用CTS公司工業級的設計理念，為科研工作者及先進制程開發公司提供了一套研究級別的高端設備，可兼容4寸，6寸，8寸樣品。

第二、產品主要特色：

1、CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，核心區，邊緣區，保持環三區壓力控制，可得到良好的工業級拋光效果；

2、自動上下片，自動拋光，干進濕出；

3、拋光墊修整器：擺臂式設計，由10個傳感器分別控制10個區域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；

4、拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式；

5，工藝數據可實時監測；

6、可存儲多個Recipe.

第三、核心技術參數：

四，應用實例：

?CMP工藝 Si CMP， 氧化物 CMP(BPSG， TEOS， ThOx)， 金屬 CMP(W， Cu)， 介質膜，STI等

?工藝開發 可協助客戶進行各類材料/薄膜等的CMP工藝技術開發