粉體行業在線展覽
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廣州競贏化工科技有限公司
芬蘭
面議
671
儀器簡介：
此產品廣泛應用于：半導體、納米材料、鈉米科技、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領域。
PICOSUN公司是一個國際化的設備制造商，在全球有銷售和服務機構.我們開發和制造原子層沉積反應器用于微米和納米技術應用。PICOSUN為客戶提供用戶友好，可靠及多產的ALD工藝工具，提供從研發到生產的工業放大。PICOSUN基地在芬蘭的espoo，美國總部在Detroit。SUNALE型ALD工藝工具被用于歐州、美國及亞洲前沿的科學機構、公司。
PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應器制造而得到的專業技術。Tuomo Suntola博士，于1974年發明了ALD技術，是PICOSUN董事會的成員。我們的**技術官SVEN LINDFORS從1975年開始連續的設計ALD系統。綜合起來講，PICOSUN擁有了200多年的ALD經驗并貢獻了100多項ALD**。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術優質的合作伙伴。
技術參數：
技術指標
SUNALE™ R系列技術特點
基本特點：
晶片尺寸 2-6”， 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工藝溫度 Up to 500°C
反應室體積 小型、中型、大型
反應室材料 316 SS， Ti， Ni， Al (quartz)
前驅體 2-6 氣體 / 氣體 / 固體
基片裝載 氣體升降
尺寸：
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’， 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg
工況：
電源 100-240 V， 50/60 Hz， 1- or 3-phase， 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
載氣 99.999 % N2 / Ar， min. 2 slm
壓縮空氣 4-5.5 bar 過壓
冷卻水 反應器不需要
排氣 為真空泵及源櫥柜配備
樣品裝載選項：
Picoloader™手動樣品裝載系統，帶一個預真空室和閘閥
主要特點：
特點
多功能的反應器設計
全套的服務
