粉體行業在線展覽
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微納（香港）科技有限公司
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? 產品簡介SWC-4000型CMP后清洗機是美國NANO MASTER公司開發的一款科研級的高端清洗系統，用于去除晶圓在CMP工藝后晶圓表面污染物、殘留物、或微塵顆粒等。該系統集成了美國NANO MASTER公司無損DI水兆聲清洗**技術，配合四路的化學試劑清洗，PVA刷洗以及帶異丙醇的高速甩干等清洗模塊，對于單片清洗而言具有**的基底清洗能力，是科研CMP后清洗機的**儀器。
? 技術特色
•兼容4，6，8，12寸片晶圓，同時可用于**7”X 7”掩膜版清洗。
•干進干出或濕進干出。
•集成了**的無損兆聲清洗技術，同時支持去離子水沖洗、化學試劑清洗、PVA刷子刷洗、紅外燈烘干/氮氣吹掃甩干清洗模塊。
•配置4路化學容器罐，可支持4路化學清洗液進行清洗。
•兩種干燥模式：高速甩干與紅外烘干，可同時使用。
•用戶可編程的清洗干燥工序，比如：
Cycle I：化學試劑清洗
Cycle II：去離子水沖洗
Cycle III：刷子刷洗
Cycle IV：兆聲去離子水清洗
Cycle V：旋轉甩干，氮氣吹掃及紅外燈烘干
每一套程序可以支持 20 個操作步驟。
•可以存儲多達 25 套產品程序。
•結構緊湊，集成度高：把所有的清洗需要集成到一個緊湊的立柜中 ，旋轉清洗單元、兆聲脈沖射流清洗器、試劑容器以及所有的閥及傳感器 都全部包含到該系統。
•帶觸摸屏的PLC控制。
? 主要技術參數
Wafer尺寸 | 4，6，8，12寸片晶圓，可用于**7”X 7”掩膜版清洗 |
清洗模塊 | 去離子水沖洗、PVA刷子刷洗、化學試劑清洗、兆聲清洗 |
去離子水 | 1.5L/min，30PSI |
PVA刷 | 刷子旋轉轉速：**400RPM |
化學試劑清洗 | 4個4升容器罐用于裝稀釋的化學清洗液，通過N2施壓控制流量與容器罐裝卸。 |
兆聲清洗 | 頻率：1MHz功率：60W |
干燥方式 | 旋轉甩干、氮氣吹掃、紅外燈烘干 |
存儲recipe | *多25個，每1個recipe可以支持 20 個清洗步驟，而在每一個步驟中可以設定以下參數： RPM 轉速 （維持的轉速 、 RAMP加速梯度（多快時間達到那個速度） 、 Dwell 運行時間 （維持想要的速度的時間有多長）。 |
旋轉臺 | 轉速：0-2000RPM 加速度/減速度：<1-25.5秒（以0.1秒為增量） |
每步驟旋轉維持時間 | **到550秒（以0.1秒為增量） |
每步驟(維持旋轉)的試劑分布時間 | 1-540秒（以1秒為增量） |
每步驟(變速階段)的試劑分布時間 | 1-25秒（以1秒為增量） |
化學試劑分配速率 | @15 PSI of N2， 83ccm (based on D.I.H2O) @20PSI of N2， 133ccm (based on D.I.H2O) |
控制器 | PLC控制系統，LCD觸控屏控制 |
儀器尺寸 | 28”*32”*54” |
?應用
• Post CMP Wafer Cleaning
• Patterned and Un-patterned Masks and Wafers
•Ge， GaAs and InP Wafer Cleaning
•Cleaning of Diced Chips on Wafer Frame
•Cleaning after Plasma Etch or Photoresist
•Stripping
•Mask Blanks or Contact Mask Cleaning
•Cleaning of X-ray and EUV Masks
•Optical Lens Cleaning
•Cleaning of ITO Coated Display Panels
•Megasonic Assisted Lift-off Process
