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真空快速退火爐AS-One
AS-One是一種通用的RTP系統,可用于開發快速熱退火和快速熱CVD工藝。
可以搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。
**溫度1500 ℃,*快升溫速率200℃/Second。
全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
應用:
•RTA(快速熱退火)
•RTO(快速熱氧化)
•歐姆接觸退火
•植入退火
•石墨烯和hBN的快速熱化學氣相沉積RTCVD
•硒化,硫化
•結晶和致密化
產品特點:
1、紅外鹵素燈管加熱,冷卻采用風冷(低噪音水平,無需壓縮空氣);
2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導致的后續使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現性及均溫性,即使在后續使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到*初的熱處理效果;
3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設計,雙層不銹鋼;
冷壁水冷技術優點在于:1、無記憶,2、工藝重復性高,3、冷卻速度快;
4、反應腔室的設計,氣體的進入口設計在wafer的表面,避免在退火過程中冷點的產生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性;
5、快速數字PID控溫;
6、熱電偶配合高溫計控溫,測試樣品的溫度,控溫精準;
7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥;
8、*多5路工藝氣體,配數字質量流量控制器;
9、電腦通過以太網連接更快的數據傳輸速度;
10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設計,用于小樣品測試;
11、可選配分子泵,用于高真空測試;
產品標準配置及規格參數:
1、樣品**尺寸:AS-One100:4-inch;AS-One150 :6-inch;
2、溫度范圍:AS-One100室溫~1250 ℃;(室溫~1500 ℃可選)
AS-One150室溫~1200 ℃;(室溫~1300 ℃可選)
3、升溫速率:AS-One100 :0.1 ℃~250 ℃/s ;
AS-One150 :0.1 ℃~200 ℃/s ;
4、溫度控制:快速數字PID控制;
5、熱電偶:2個K型熱電偶;
6、低溫高溫計溫度范圍:150℃~1100 ℃;
7、高溫高溫計溫度范圍:400℃~1500 ℃;
8、工藝氣體氣路配質量流量計;
9、配置真空泵及真空規;