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Bench-Top Plasma Tool

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German First-Nano System 德國韋氏納米

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AGS Plasma Systems, Inc.

Now Celebrating Our 25thyear!

美國AGS成立于1991年,在等離子系統領域已有25年的歷程,是一家歷史悠久的等離子系統供應商,提供的真空等離子系統主要應用于圖案轉換中薄膜沉積,刻蝕,如微電子,MEMS,光伏,光電,納米科技等行業領域。

2012年Semicon West ,AGS公司推出一個新型的,桌面式 TT-150—RIE/CVD 系統,非常經濟實用,對世界各地大學,研究所來說這樣如此特色的RIE和CVD應用是非常**的。
  • 模塊化的TT-150適合半導體MEMS,TFT,PV的2寸---6寸應用。

  • AGS TT 等離子系統在一個平臺上提供了所有的功能特征

  • RIE,PECVD,和等離子刻蝕PE都能在一個易操作,低維護,實用簡單的平臺上實現,同時可以根據您的工藝要求升級您的需求

  • 當您需要更換工藝技術是,腔體的部件,材料,進氣裝置提供更多的工藝擴展

  • AGS依靠公司豐富的經驗為新工藝開發提供低成本的先進的技術資源便于提前研發先進的領域技術

  • 桌面式,占地面積小,節省實驗室空間

  • 工藝控制簡單,易于使用者操作

  • 兼容等離子刻蝕PE和PECVD,成本低

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