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美國NXQ以**的性能，經濟的價格，深受全球用戶喜愛，截至2016年底，超過5000臺NXQ曝光系統遍布全世界科研實驗室，研發(fā)中心。

NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統，融合了獨立的模塊化設計，精準控制對準和曝光等特點，自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用，適合實驗室多用戶使用。

該系統特點：

• 鍥型誤差補償系統----獨特的WEC設計

• 紫外燈源的多樣性選擇

• 曝光光路的精準控制

• 視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

• 高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準

使用領域（包括但不限于下述領域的光刻工藝）

• 微電子

• LED/HBLED

• 3D IC /晶圓制造工藝

• 2.5D Interposer

• MEMS

• BioMEMS

• 微流控芯片

• 化合物半導體

• 太陽能（HCPV）

• 光電子

型號：

• NXQ4006半自動型（可處理**6英寸基片）

• NXQ4008半自動型（可處理**8英寸基片）