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PicoMaster 100 無掩模激光直寫光刻機
●250納米分辨率(375納米激光源)
●300納米分辨率(405納米激光源)
●4095灰階
●業界**實力的成套全息設計軟件
●**125x125毫米基板尺寸
PicoMaster 100 采用波長405納米二極管激光器,它擁有市場上*小的300納米激光分辨率。升級375納米激光源,可以更好地兼容市面上I-line光刻膠材,從而滿足更高級別的應用需求。備用光學模塊,將大大的降低機器停機時間。更為人性化的軟件設計,大大提升了用戶實際操作效率,它將是您科學研究、實驗開發、設計創新,理想的光學伙伴。PicoMaster 100廣泛應用于半導體光刻, LED芯片,微流控芯片,微納結構,灰度光刻,三維加工,全息影像等多個領域。
PicoMaster 100 無掩模激光直寫系統性能規格