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美國EM-KLEEN電鏡腔遠程等離子清潔儀

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南京覃思科技有限公司

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產(chǎn)品介紹

電鏡腔等離子清潔儀(遠程等離子清潔儀)

美國PIE出品的EM-KLEEN型遠程等離子清潔儀,廣泛用于SEM掃描電鏡,F(xiàn)IB聚焦離子束雙束電鏡,TEM透射電鏡,XPS_X射線光電子能譜分析儀,ALD原子層沉積系統(tǒng),CD-SEM, EBR, EBI, EUVL和其它高真空系統(tǒng),可同時清潔真空腔室和樣品!

污染物對電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響

潤滑劑、真空脂、泵油樣品中的高分子聚合物,或未經(jīng)處理的空氣都會把碳氫污染物引到真空系統(tǒng)中。低蒸汽壓下高分子重污染物會凝聚在樣品表面和腔室壁上,而使用普通氣體吹掃方法很難把碳氫污染物清除。

電子和高能光子(EUV, X-ray)能夠分解存在于真空系統(tǒng)中或樣品上的碳氫污染物。碳氫化合物的分解產(chǎn)物沉積在被觀測的樣品表面或電子光學(xué)部件上。這種碳氫污染沉積會降低EUV的鏡面反射率,降低SEM圖像對比度和分辨率,造成錯誤的表面分析結(jié)果,沉積在光闌或其它電子組件的不導(dǎo)電碳氫污染物甚至?xí)斐呻娮邮恢没蚓劢咕徛啤T?/span>ALD系統(tǒng)中,樣品表面的碳氫污染物還會降低薄膜的界面匹配質(zhì)量。

遠程等離子清潔的原理

遠程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上,控制器向遠程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發(fā)等離子體,分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基,活性基會擴散到下游的真空腔室,并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),反應(yīng)產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠程等離子清洗機可同時清潔真空系統(tǒng)和樣品。

技術(shù)特點:

  • 快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。不需減速或關(guān)閉渦輪分子泵

  • 低等離子偏壓設(shè)計減少離子濺射和顆粒生成。結(jié)合自有**多級氣體過濾技術(shù),SEMI-KLEEN能夠滿足用戶*苛刻的顆粒污染清除要求

  • 可選藍寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等應(yīng)用

  • 特有的等離子強度傳感器可實時監(jiān)測等離子狀態(tài),用戶對等離子狀態(tài)一目了然

  • 基于壓力傳感回饋控制的自動電子流量控制器,無需手動調(diào)節(jié)針閥

  • 直觀的觸摸屏操作,可定義60條清洗程序方案

  • 擁有智能安全操作模式和專家控制模式;SmartScheduleTM定時裝置,通過檢測樣品裝載次數(shù)或時間間隔來定時清潔系統(tǒng)

  • 低電磁干擾設(shè)計,安靜的待機模式

除了EM-KLEEN型遠程等離子清潔儀之外,另有SEMI-KLEEN quartz型和SEMI-KLEEN sapphire遠程等離子清潔儀可供選購,三款主要應(yīng)用范圍如下:

EM-KLEEN:SEM, FIB, TEM, XPS, SIMS, AES

SEMI-KLEEN quartz:SEM, FIB, TEM, CD-SEM, EBR, EBI, XPS, SIMS, AES

SEMI-KLEEN sapphire:ALD, EUVL, for NF3, CF4, NH3, H2, HF, H2S plasma

請根據(jù)您需要的應(yīng)用選擇合適的型號和配置。

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美國EM-KLEEN電鏡腔遠程等離子清潔儀

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