典型應用-中子散射

SHI-4T或SHI-950T系列4K制冷機可特殊設計應用于中子散射和衍射實驗。這些系統帶有鋁（或者釩）中子區，將中子區壁厚減小，可**程度地減少中子束到達實驗樣品前的吸收，從而增大中子束穿過率。

SHI-4T-800中子散射用制冷機 SHI-950T中子散射用制冷機

選項包括：

●樣品在真空或交換氦氣中

●特殊的安裝法蘭匹配Goniometers

●長尾部可到達深中子阱

●大樣品區使得樣品到鋁壁間距離盡可能**

●冷指處有4K屏蔽層

●緊湊型設計滿足空間受限場合

●可更換尾部

●高溫選配至800K

特殊定制的SHI-950T，用于中子散射，溫度變化范圍從4K到800K，請查看圖紙：