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手動SPM清洗機

手動SPM清洗機

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聲達半導體設備(江蘇)有限公司

江蘇

產品規格型號
參考報價:

面議

品牌:

江蘇聲達

型號:

手動SPM清洗機

關注度:

95

產品介紹

 適用工件:

(Applicable parts)

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8"*1 pc晶圓片

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8”*1pc Wafer

 批量產能:
(Capacity)

1 batch/30min

   工藝流程:
(Procedure flow)
LOAD(手動)→SPM槽→HQRD槽→HOF槽→UNLOAD(手動)
主要材料:
(Major material)
金屬骨架SUS304+PP瓷白板,槽體采用PPN/石英
(Metal frame SUS 304,PP board,the tank uses PPN/silicon)
   運送方式:
(Transportation)
手動傳送
(Manual)
 節拍時間:
(Step  time)
依工藝可調
(Based on process,Adjustable)
   工藝效果:
  (Process effect)
清除晶圓片表面的有機物
(Removal organics on the surface of wafer)
 其他說明:
(Others)
設備可以根據客戶要求定制手動/半自動
(Customized:Semiautomatic or manual)

 適用工件:

(Applicable parts)

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8"*1 pc晶圓片

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8”*1pc Wafer

 批量產能:
(Capacity)

1 batch/30min

   工藝流程:
(Procedure flow)
LOAD(手動)→SPM槽→HQRD槽→HOF槽→UNLOAD(手動)
主要材料:
(Major material)
金屬骨架SUS304+PP瓷白板,槽體采用PPN/石英
(Metal frame SUS 304,PP board,the tank uses PPN/silicon)
   運送方式:
(Transportation)
手動傳送
(Manual)
 節拍時間:
(Step  time)
依工藝可調
(Based on process,Adjustable)
   工藝效果:
  (Process effect)
清除晶圓片表面的有機物
(Removal organics on the surface of wafer)
 其他說明:
(Others)
設備可以根據客戶要求定制手動/半自動
(Customized:Semiautomatic or manual)

 適用工件:

(Applicable parts)

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8"*1 pc晶圓片

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8”*1pc Wafer

 批量產能:
(Capacity)

1 batch/30min

   工藝流程:
(Procedure flow)
LOAD(手動)→SPM槽→HQRD槽→HOF槽→UNLOAD(手動)
主要材料:
(Major material)
金屬骨架SUS304+PP瓷白板,槽體采用PPN/石英
(Metal frame SUS 304,PP board,the tank uses PPN/silicon)
   運送方式:
(Transportation)
手動傳送
(Manual)
 節拍時間:
(Step  time)
依工藝可調
(Based on process,Adjustable)
   工藝效果:
  (Process effect)
清除晶圓片表面的有機物
(Removal organics on the surface of wafer)
 其他說明:
(Others)
設備可以根據客戶要求定制手動/半自動
(Customized:Semiautomatic or manual)

 適用工件:

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4”*2 pcs,6”*2 pcs,8"*1 pc晶圓片

4”*2 pcs,6”*2 pcs,8”*1pc Wafer

 批量產能:
(Capacity)

1 batch/30min

   工藝流程:
(Procedure flow)
LOAD(手動)→SPM槽→HQRD槽→HOF槽→UNLOAD(手動)
主要材料:
(Major material)
金屬骨架SUS304+PP瓷白板,槽體采用PPN/石英
(Metal frame SUS 304,PP board,the tank uses PPN/silicon)
   運送方式:
(Transportation)
手動傳送
(Manual)
 節拍時間:
(Step  time)
依工藝可調
(Based on process,Adjustable)
   工藝效果:
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清除晶圓片表面的有機物
(Removal organics on the surface of wafer)
 其他說明:
(Others)
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