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半導體等離子清洗設備
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真空等離子清洗設備采用一體化結構，配備RF離子清洗系統，全自動化控制，操作方便，維護方便。通過RF高頻發生器，可產生高密度等離子體，對工件表面進行活化、刻蝕、灰化，有效去除產品
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