粉體行業在線展覽
面議
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URE-2000系列紫外單面光刻機
.URE-2000/A8紫外光刻機
主要產品技術特征及指標:
•曝光面積:200mmx200mm ;
•分辨力:2um ;
•對準精度:2um ;
•掩模尺寸:5英寸、礫寸、9英寸;
•樣片尺寸:碟寸、礫寸、8英寸;
• wafer chuc棲面:防止光反射涂層;
•掩模樣片整體運動范圍:X : 10mm;Y:10mm ;
•掩模相對于樣片運動行程:X: 5mm; Y: 5mm; : 6。;
•汞燈功率:100QW (直流);
•曝光能*密度:2 15mW/cm2 ;
•光源能■控制:光源恒功率(每日測嵐光強,微調recipe(參考356nm波長);
•曝光峰值波長365 nm ;
•曝光方式:定時(倒計時方式0.1s—9999.9s);
•光刻版夾具兼容性
•具有盲曝粗對準功能.
產品型號 | 曝光面積 | 光刻分辨力 | 汞燈功率 | 照明不均勻性 |
URE-2000B | lOOmmXIOOmm | 0.8 pm (膠厚2 pm的正膠) | 1000W13iE (德國歐司朗) 刼礎 | 2.5% (<D100mm 范圍 ) |
URE-2000/35 | lOOmmXIOOmm | 翎力:1 pm (膠厚2 pm的正膠) | 350WM流 (徳國歐司朗) | 3% (饑00mm范圍 |
URE-2000/35A | 150mmX150mm | 1-1.2 pm (膠厚2卩m的正膠) | 350W進口顫 高 陵國歐司朗) | 6% (0150mm 范圍) |
URE-2000/30 | lOOmmxlOOmm (磔寸) | 潮力:£1 pm (瞄 1.5|jm 的 IEK) | 談麟電源 | (35OW1:^CD 3% (<P100mm 范圍) |
URE-2000/25 | lOOmmXIOOmm | 徹力:1.2 pm (膠厚2 pm的正膠) | 赦嶙 電源350W 直流,進口 | 3% (<P100mm 范圍) |
URE-2000/17 (臺式) | lOOmmXIOOmm | 徹力:1.5 pm (膠厚2呻的正膠) | 200瀕口顫 (德國歐司朗) | 5% (0100mm 范圍) |
URE?2000系列雙面光刻機
URE-2000S/A8型奴面光刻機
主要產品技術特征及指標:
•采用**技術一積木錯位蠅眼透鏡消衍射技術和線條陡直增強技術,曝光圖形質量好,光刻分辯力高.
•采用**的CCD囲像底面對準,單曝光頭正面曝光實現雙面對準功能.
•采用新穎的高精度,多自由度掩模一樣片精密對準工件臺結梅掩模與樣片對準過程直觀,套刻對準速度快,精度高樣片的采
用推拉茹準平板,真空吸附式,操作方便。
•采用1000W長壽命型汞燈光源,曝光能量高,聚光角度小,光源穩定,持久。
•支持真空接觸曝光,硬接觸曝光,壓力接觸曝光,接近式曝光四種曝光功能。
•配備循環水冷卻系統,照明面溫度恒定。
•具有納米壓印接口功能.
•曝光面積:8英寸;對準精度:M±2 nm (雙面,片厚0.8mm) /0.8皿(單面).
•掩模尺寸:礫寸、5英寸' 7英寸、9英寸.
•光刻分辨力:1pm.
•曝光方式:定時(倒計時方式0.1S-9999.9S任意設定)和定劑量.
•**膠厚:500 pm (SU8膠,用戶提供檢測條件)?
•汞燈功率:1000W (直流,進口直流高壓汞燈德國歐司朗).
•照明不均勻性:5% ( 0200mm范圍).
產品型號 | 曝光面積 | 光刻分辨力 | 汞燈功率 | 照明不均勻性 |
URE-2000S/A | 6詞 | 1pm | looovmnw^Hj^r (德國歐司朗) | 2% (OlOOmm 范圍) 3% (<P150mm 范圍 |
URE-2000S/B | 篠寸 | 1pm | looovmnMMj^r (德國歐司朗) | 2% ((plOOmm 范圍) |
URE-2000S/25A | l|jm | 350W進口直流高壓汞燈 (德國歐司朗) | 3% ((PlOOmm 范圍) 5% (0150 mm范圍) | |
URE-2000S/25B | 磔寸 | 1pm | 350W進口直流高壓汞燈 (德國歐司朗) | 3% ((PlOOmm 范圍) |
URE-2000S/35L (A) | 6知 | 1pm | 紫外LED進口燈源 | 1.5% ((PlOOmm 范圍) 3% (0150 mm范圍) |
URE-2000S/35L (B) | 僥寸 | 1pm | 紫外LED進口燈源 | 1.5% (0100mm 范圍) |
URE-2000S/25S | 4鋼6知 | 1pm | 350瀕口直流高壓汞燈 (德國瞄朗) | 3% (0100mm 范圍) 5% ((P150 mm范圍) |
投影光刻機
.TYG-2000S系列投影光刻機
主要產品技術特粧及指標:
•軟件界面友好、科學、直觀.可對當前曝光區域,待曝光區域,曝光參數等信息提供實時的圖形化• •通過選
配背面對準模塊,可實現雙面對準曝光,將該機型升級為具有雙面對準曝光功能步進投影光刻機。 •配置焦面檢
測自動控制系統,焦面位置設定后,曝光過程中自動實時完成焦面調整。
•采用冷光膜與i線照明系統,曝光波長為365nm ,曝光面為冷光,曝光圖形方、陡、直.
•支持真空接觸曝光,硬接觸曝光,壓力接觸曝光,接近式曝光四種曝光功能.
•采用夸利技術-積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明不均勻優于2%。
•采用先進的離軸對準系統,對準過程自動完成,對各種不同大小的基片,
(含碎片)對準十分適用.
•對準精度:±0.5卩m.
•照明均勻性:2%。
•曝光面積:3mmx3 mm ~ 50mmx50mm.
•調焦臺運動靈敏度:1 jim.
•掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸.
•調焦臺運動行程:5mm.
•光刻分辨力:。.3卩m ~ 5 ym.
•檢焦:CCD檢測,檢測精度0.5 pm.
.光源:350施形汞燈,
•汞燈功率:1000W (直流,進口直流高圧汞燈德國歐司朗).
產品型號 | 曝光面積 | 光刻分辨力 | 汞燈功率 | 照明不均勻性 |
TYG-2000/A | 0.8pm - 1pm | 350W | 2% | |
TYG-2000/T1 | 0mm x 10mm | 1pm | 350W進口直流高壓汞燈 (德國歐司郎) | +2% |
TYG-2000/T2 | 20mmx20mm | 2pm | 350W進口顫mMT (德國歐司朗) | ±2% |
TYG-2OOO/T3 | 50mm x 50mm | 5pm | 350味晰汞燈 (曝光譜線:i線) | ±2% |
DS-2000系列無掩模光刻機
產品型號 | 技術特征 | 技術參數 |
DS-2000/14G 型 | 采用DMD作為數字掩模,像素數 1024x768或1920x1080或 25601600三 種選配. 采用縮小投影光刻物鏡成像,分辨力 lum0 采用**技術一一積木錯位蠅眼透鏡實 現 均明。 采用進口精密光柵、進口電機、進口導 軌、 進口絲杠實現精確工件定位和曝光 拼接, 可適應lOOmmlOOmm基片。 采用CCD 檢焦系統實現整場調平、自動 逐場調焦或 自動選場調焦曝光。 具備對準功能。 | 光源:350W球形汞燈(曝光譜線:i線)或紫 外 LED ;照明不均勻性:2% ;物鏡倍率: 7.6倍(或 14倍與選擇的DMD像素尺寸有 關);曝光場面 積:lmmx0.7mm (或 1.9mmxl.8mm ,或 2.5mmxl.6mm ,與選 擇的DMD像素數有關); 光刻分辨力: 1 p m ; 工件臺運動范圍: X : 100mm、 Y : 100mm ;工件臺運動定位精度:0. 5pm ;調 焦臺運動靈敏度:lpm ;對準精度:2卩 m ;調 焦臺運動行程:6mm ;檢焦:CCD檢測, 檢 測精度2微米;轉動臺行程:±6。以上;直寫 速 度:40mm2/min ;基片尺寸;外徑: 1mm— 100mm ,厚度:0.1mm--5mm。 |
DS?2000/14K型 | 采用DMD作為數字掩模,像素數 1024x768. 采用14倍縮小投影光刻物鏡成像。 采用專 利技術一一積木錯位蠅眼透鏡實 現均明。 具備對準功能。 采用進口精密光柵、進口電機、進口導 軌、 進口絲杠實現精確工件定位和曝光 拼接, 可適應lOOmmlOOmm基片。 采用CCD 檢焦系統實現整場調平、自動 逐場調焦或 自動選場調焦曝光。 | 光源:350W球形汞燈(曝光譜線:i線)或紫 外 LED ;照明不均勻性:2% ;物鏡倍率:14 倍;曝 光場面積:lmmx0.75mm ;光刻分辨 力:1 pm ; 工件臺運動范圍:X : 100mm、 Y :100mm;工件 臺運動定位精度:0.65卩 m ;調焦臺運動靈敏度: lum ; 對準精度:2pm ;調焦臺運動行程:6mm ; 檢焦: CCD檢測,檢測精度2微米;轉動臺行 程:±6°以 上;基片尺寸;外徑: 1mm—100mm ,厚度: 0.1mm--5mm。 |