粉體行業在線展覽
面議
324
微電極拉制儀(Microforge)拉制出的電極,電極的尖端往往不是很光滑。為了能與細胞膜間形成穩定可靠的封接,一般拉制出的微電極需要對其尖端進行拋光處理,尤其是進行單通道記錄時的微電極更需要進行拋光,此時需要使用微電極拋光儀。單通道記錄中還需要在微電極尖端涂上疏水性硅酮樹脂(Sylgard)以減小跨壁電容(Transmural capacitance)帶來的噪聲,此時要注意先涂Sylgard后拋光。
微電極拋光儀應用范圍:微電極拉制儀拉出的電極,在電極的尖端,往往不是很光滑。因此拉制出的微電極必須進行細致的拋光處理,以保證高阻封接的質量,同時還可使封接保持長時間的穩定。在一些實驗中還需要在微電極尖端涂上(Coating)疏水硅膠樹脂(Sylgard)以減小跨壁電容(Transmural capacitance)帶來的噪聲.
微電極拋光儀主要特點:
1. 目鏡:15X,物鏡變焦倍數: 5X 和 35X
2. 放大倍數:75 --- 525倍3. 加熱操作器移動距離: X 軸14mm, Y軸14mm, Z軸14mm,4. 電極操作器移動距離:Y軸12mm, Z軸28mm
5. **工作距離:0 – 30mm
6. 操作方便,設計合理