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ENTECH 4700高精度稀釋儀是ENTECH**研發(fā)的新一代的標樣制備系統(tǒng)。憑借精密的氣路控制、準確的壓力測量、超級惰性的系統(tǒng)流路，4700可以實現(xiàn)從PPB到亞PPT的多級稀釋。4700適用于蘇碼罐和真空瓶，可先稀釋100倍，再二次稀釋同樣可達100倍，總的稀釋倍數(shù)高達10000倍。

ENTECH 4700采用壓差而不是質量流量計(MFC)測量來制備標樣，其有諸多優(yōu)點：

**、大量節(jié)省標氣。4700通過向罐子里直接填充一定壓力的稀釋氣和標氣即可實現(xiàn)高濃度標氣的稀釋，需要填充多少壓力的標氣（或稀釋氣）就填充多少壓力，不會造成額外的浪費，稀釋氣和標氣的填充量通過軟件自動計算實現(xiàn)。

第二、4700不再使用MFC，排除通道間的流速偏差，整個系統(tǒng)的壓力靠一個壓力傳感器測量。稀釋氣或標氣添加過程中依靠數(shù)字比例閥精準調節(jié)速率，在接近設定的填充壓力時，比例閥會降低填充速率，使填充速率很小很小，從而實現(xiàn)精準的壓力填充，*終實現(xiàn)精準的稀釋。

第三、用戶自行完成4700的校準。4700僅需要對其壓力傳感器進行校準，校準通過稱重法即可實現(xiàn)。通過測量不同壓力時罐子的重量，繪制重量/壓力曲線，確定傳感器線性度，實現(xiàn)對傳感器的校準，整個校準過程用戶僅需一個萬分之一的天平即可在實驗室完成。

ENTECH 4700高精度稀釋儀6通道標配，CH1為稀釋氣路，位于儀器背后；CH2-CH5位于儀器右側為標氣路，更換標氣瓶方便快捷；CH6位于前面，用于二級稀釋。

ENTECH 4700全部流路采用**的Silonite-D技術涂覆處理，保證組份的回收和系統(tǒng)的高效清洗。

ENTECH 4700 4路Silonite惰性涂覆的標氣入口