粉體行業在線展覽
面議
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低溫黑體
DCN1000 低溫擴展面源黑體
-**溫度范圍從–40 °C 到 +150 °C
-差分和**兩種工作模式
-發射面積可達 300 mm x 300 mm
氣體冷卻 DCN1000N/H 系列和液體冷卻 DCN1000W/L 系列是在**溫度–40 °C 至 +150 °C 溫度范圍內具有良好的熱均勻性,穩定性和較高的發射率的擴展面源黑體。
系統由一發射本體和控制溫度的電控裝置組成,溫度控制采用實時 PID 參數調整技術。它們包含一個溫度由電控單元控制的發射頭,發射本體同時包括靶標的支架。發射表面溫度被精確和穩定的控制到低于或高于靶標溫度。標定過的高精度的Pt溫度傳感器實時地測量靶標和發射表面的溫度。
不同尺寸的發射面能滿足不同的使用要求,例如:與 MRTD,LSF 和 NETD 靶標結合可檢測熱成像儀的特性,焦平面陣列的測試,紅外傳感器的非均勻性校正等。