粉體行業(yè)在線展覽
面議
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一、概述
SE-m 是一款針對半導體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結構測量的專用型光譜橢偏儀,其采用行業(yè)**橢偏創(chuàng)新技術,自主獨立研發(fā)出行業(yè)** 1 超小微光斑探測測量技術,2 定制超快測量速度,等**技術。可應用透明各類襯底上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量,**適用于微區(qū)圖形的各種光學參數(shù)解析。
二、特色功能
■ 可定制光斑尺寸,*小可達30um;
■ 超快測量,單次測量時間小于0.5秒 ;
■ 系列配置靈活,支持功能定制設計;
■ 結構緊湊,更適應在線集成測量.
三、測量實例
微區(qū)圖形結構測量
四、應用場景
應用于光學常數(shù)測量,**適用于各類光學薄膜等鍍膜檢測應用。
TH-F120
在線折光儀PRB21
ParticleX TC
觀世
在線濁度計
CELL PAT
FS500全譜直讀光譜儀
OES1000
蜂鳥10X42
Nanocoulter