粉體行業在線展覽
EMI防制PVD
面議
鴻浩半導體
EMI防制PVD
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核心技術:
超高膜厚勻性控制工藝與設備技術;
超低溫成膜工藝與對應之設備技術;
**射頻等離子體清潔工藝;
簡介: 九大**: 客制化精密零件、自主研發、**遠端監控、雙變頻電控系統、人機觸控界面、HOT N2功能模式、視覺燈效管理、6秒不斷電UPS系統、關鍵數據趨勢圖 先進性: 干泵結構的優化設計以降低能耗; 零件采用特殊涂層,增加抗腐蝕能力; 新型冷卻結構及內建熱氮氣吹掃功能模式
核心技術:
超高膜厚勻性控制工藝與設備技術;
超低溫成膜工藝與對應之設備技術;
**射頻等離子體清潔工藝;
先進性:
自有IP特殊Pre-treatment電極設計;
保證立體結構的完整包覆是借由設計TS Distance的優化,**的shielding box設計以及工藝參數的優化來達成;
獨特的cathode設計特點
簡介: 九大**: 客制化精密零件、自主研發、**遠端監控、雙變頻電控系統、人機觸控界面、HOT N2功能模式、視覺燈效管理、6秒不斷電UPS系統、關鍵數據趨勢圖 先進性: 干泵結構的優化設計以降低能耗; 零件采用特殊涂層,增加抗腐蝕能力; 新型冷卻結構及內建熱氮氣吹掃功能模式
000433
氣動錘安裝底座(鋼)
氣力輸送專用閥門(1)
CX-JLB 鋰電漿料泵系列-機械密封
抽氣室
熱質式流量開關
SIGRADUR G
密封
GRB1
動力電池
WT01P4C6-S1 ESP32-P4核心板
防爆音叉料位開關