粉體行業在線展覽
面議
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nanoArch S130微納3D打印機由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統,將需打印模型分層投影至樹脂液面,快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢,被認為是目前**有前景的微尺度加工技術之一。
基本參數
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等
光學精度:2μm
打印層厚:5-20μm
打印尺寸:
①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)
②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)
③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復陣列模式)
文件格式:STL
設備功率:3000W
系統外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量:450kg
電氣要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW
應用領域:
可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域
企業簡介:
摩方材料是一家專注于高精密微納3D打印系統及材料的高新技術企業,其業務涵蓋高精密3D打印設備的研發及生產、高精密3D打印定制化產品服務、高精密3D打印原材料的研發及生產、高精密3D打印工藝設計開發及相關技術服務,擁有較為完整的高精密微納3D打印產業生態鏈。
作為微納3D打印的先行者和***,在三維復雜結構微加工領域,摩方團隊擁有超過二十年的科研及工程實踐經驗。