粉體行業(yè)在線展覽
BHO200型超高溫氧化爐
面議
拉普拉斯
BHO200型超高溫氧化爐
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項(xiàng) 目 | 高溫氧化爐 |
功 能 | ? 用于SiC、GaN等高溫氧化工藝 ? 滿足真空/氣氛高溫氧化工藝 |
重要參數(shù) | ? **晶圓尺寸:滿足6寸以下晶圓工藝要求 ? **載片量:50片/批 ? **加熱溫度:1500℃ |
裝卸片方式 | ? 立式垂直升降 ? 立式真空密封系統(tǒng) |
拉普拉斯新能源科技股份有限公司(LAPLACE Renewable Energy Technology Co., Ltd.)成立于2016年,是一家由多位海內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域高端人才創(chuàng)立的高科技高端裝備研發(fā)制造企業(yè)。拉普拉斯致力于成為**的泛半導(dǎo)體領(lǐng)域核心工藝解決方案提供商。
拉普拉斯現(xiàn)有人數(shù)規(guī)模超過(guò)1840人,公司擁有一支包含多名外籍專家和多名博士在內(nèi)的核心研發(fā)團(tuán)隊(duì),研發(fā)人員占比14.89%,技術(shù)人員占比27.28%。公司在深圳坪山區(qū)擁有一座8000平方米的研發(fā)中心和生產(chǎn)廠房,公司在無(wú)錫占地137畝,一期**棟廠房13000平方米已建設(shè)完成并投入使用,可滿足單月產(chǎn)能400臺(tái)套以上的生產(chǎn)需求,未來(lái)2-3年將快速完成二期和三期的工廠建設(shè)規(guī)劃。
熱場(chǎng)
石英件
BHO200型超高溫氧化爐
超高溫退火爐
Bhadra?真空成型LVA400
Bhadra?立式
拉普拉斯電池間隙貼膜機(jī)
鍍膜自動(dòng)上下料設(shè)備
拉普拉斯低壓水平化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備 LPCVD LLP430
拉普拉斯低壓水平氧化退火設(shè)備 LOX430
拉普拉斯低壓水平硼擴(kuò)散設(shè)備 LRB430
拉普拉斯低壓水平磷擴(kuò)散設(shè)備 LRP430