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不導電(NCVM)膜鍍膜設備
面議
福宜真空
不導電(NCVM)膜鍍膜設備
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不導電(NCVM)膜鍍膜設備是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。
真空蒸發鍍膜裝置具有結構合理、抽速大、工作周期短、生產效率高、操作方便,能耗低、工作穩定,且膜層均勻、成膜質量好等優點。該設備主要廣泛應用于塑料電子產品:手機外殼、手機按鍵、電腦、數碼、電子通信等的表面鍍制不導電膜(NCVM)。
本公司可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。
設備型號 | FE-REC-1200 | FE-REC-1400 | FE-REC-1600 | FE-REC-1800 | FE-REC-2000 |
真空室尺寸 | 1200×1500 | 1400×1950 | 1600×1950 | 1800×1950 | 2000×1950 |
制膜種類 | 半透明膜、金、銀、紅、藍、綠、灰、黑、七彩等多種顏色 | ||||
電源類型 | 電阻加熱鎢絲蒸發變壓器電源、高壓離子轟擊電源、可控硅電源 | ||||
真空室結構 | 立式雙開門、立式單開門、臥式單開門、抽氣系統 | ||||
真空系統 | 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:深冷系統) | ||||
極限真空 | 8×10-4 pa(空載、凈室) | ||||
抽氣時間 | 空載大氣抽至5×10-2pa小于6分鐘 | ||||
工件旋轉方式 | 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速 | ||||
控制方式 | 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC | ||||
備注 | 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做 |