粉體行業(yè)在線展覽
SYDC-200H
面議
SYDC-200H
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恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。
一. 產(chǎn)品簡介 控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī),主要用于在一定溫度下進(jìn)行提拉鍍膜的情況。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為 “濕凝膠膜”,隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。 恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。 適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。 三. 產(chǎn)品特點(diǎn) 1. 精密的垂直提拉裝置。**升級為德國原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置部件,采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動無間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、終身免維護(hù)、使用壽命長等特點(diǎn)。 2. 采用伺服電機(jī)驅(qū)動。配合德國原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的高精度、平滑性、無抖動等特點(diǎn)是步進(jìn)電機(jī)不可比擬的。 3. 多參數(shù)全自動程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過程全自動運(yùn)行。 4. 鍍膜系統(tǒng)采用7英寸液晶觸摸屏使控制更方便;運(yùn)行時(shí),各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程; 5. 可設(shè)置多段程序控溫。精密控溫,溫度均勻性高。整個(gè)鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進(jìn)行,恒溫場溫度控制系統(tǒng)采用LCD液晶顯示。 6. 上下兩端均安裝有限位傳感器,提拉或下降運(yùn)行時(shí),到限位處自動停止,避免提拉或下降的超限運(yùn)行。 7. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn),運(yùn)行連續(xù)、平滑。鍍膜時(shí)液面無振動,使成膜更均勻; 8. 特殊設(shè)計(jì)的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片; 四. 技術(shù)參數(shù) 1. 提拉速度范圍:1~8000 μm/s,*小分辨率1μm/s; 2. 適用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 200×200 mm,厚度MAX 10mm; 3. 浸漬時(shí)間:1~3600 s,*小分辨率1s; 4. 鍍膜次數(shù):1~1000次,*少1次; 5. 每次鍍膜間隔時(shí)間:1~3600 s,*小分辨率1s; 6. 恒溫溫度:RT+10~200℃,溫度分辨率0.1℃; 7. 溫度波動度:≤±0.5℃; 8. 恒溫場內(nèi)尺寸:450×550×550 mm(W×D×H); 9. 電源:220V/50Hz SYDC-200H控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater“是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料而設(shè)計(jì),對不同液體在恒溫箱體中通過浸漬提拉生長薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
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