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SiC碳化硅
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浙江東尼電子股份有限公司
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東尼采用的前沿技術突破了碳化硅單晶材料的大直徑生長、多型控制、應力和位錯缺陷降低等關鍵問題,解決了碳化硅晶體生長缺陷數量的控制和晶體品質的瓶頸問題,從而得到高質量、大尺寸的碳化硅單晶材料。
通過采用多重物理量有限元素工程分析軟件,優化長晶熱場、流場,獲得**的徑向溫度梯度
采用碳化鉭涂布工藝技術,抑制熱場中雜質的揮發,提高晶體品質
優化研磨技術與特殊拋光工藝技術,提高量產良率和晶體品質的一致性
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WO
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GC0.5
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409-21-2
240#
JIS#12-#12000
W63-W1
B-SiC-50N
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