粉體行業(yè)在線展覽
SparkCCD 7000 全譜直讀光譜儀
面議
儀云科技
SparkCCD 7000 全譜直讀光譜儀
808
SparkCCD 7000 全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率 線 陣 CCD(Charge-coupled Device) 作 為 檢 測(cè) 器, 實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng),儀器性能更穩(wěn)定,服務(wù)期限更長(zhǎng)久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉(zhuǎn)同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無(wú)縫銜接,拓展分析范圍,第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確,可在用戶現(xiàn)場(chǎng)任意增加分析基體和分析元素而無(wú)需增加硬件,維護(hù)保養(yǎng)簡(jiǎn)單方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適用于各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸,速度快,通用性更強(qiáng)。
SparkCCD 7000 可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車(chē)制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原材料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
儀器特點(diǎn):
全固態(tài)數(shù)字火花光源
? 全固態(tài)數(shù)字火花光源(國(guó)家**技術(shù) **號(hào) ZL 2010 1 0118150.4)
? 能量、頻率連續(xù)可調(diào) 頻率**可達(dá) 1000Hz
? MTBF(平均無(wú)故障間相隔時(shí)間)> 5000 小時(shí)
同軸自旋式氣路激發(fā)臺(tái)
? 自旋氣路
? 增壓式自吹掃 激發(fā)充分
? 千次激發(fā)無(wú)需清理
恒溫系統(tǒng)
? 硅膠加熱片,加熱均勻、穩(wěn)定
? 高精度溫控系統(tǒng),溫度控制精度 ±0.1℃ 多重保溫措施,隔絕環(huán)境溫度影響,保證光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定
采集系統(tǒng)
? 網(wǎng)口傳輸方式,數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定、可靠
? 多線程數(shù)據(jù)采集,采集速度快、頻率高
自保護(hù)透鏡隔離閥
? 便于維護(hù) 消除誤操作引起的光學(xué)系統(tǒng)污染
高速智能校正
? 單次激發(fā)即可校正全譜
? 自動(dòng)校準(zhǔn)像素漂移,保證光學(xué)系統(tǒng)穩(wěn)定性
第三元素干擾
? 自動(dòng)扣除元素間加合、倍增干擾,分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
曲線分段跳轉(zhuǎn)
? 元素含量高低曲線分段,自動(dòng)匹配,分析范圍廣
? 未知樣品自動(dòng)匹配**分析程序
分析軟件
? 簡(jiǎn)潔清新、功能強(qiáng)大 多語(yǔ)言版本(中、英、俄、德) 智能冶煉配料計(jì)算
? 牌號(hào)識(shí)別
? 支持碳當(dāng)量等自動(dòng)計(jì)算功能
儀器參數(shù):
檢測(cè)器靈敏度行業(yè)**
? 高分辨率 CCD 檢測(cè)器
? 像素?cái)?shù):3648+46 全行業(yè)** 像素尺寸: 8μm 全行業(yè)*小
? 精薄鍍膜,紫外波段檢出限更低,可做低含量 N
萬(wàn)級(jí)超凈環(huán)境下打造**光學(xué)系統(tǒng)
? 帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng),無(wú)像差,分辨率均勻
? 高發(fā)光全息光柵,光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm,全行業(yè)** 線分辨率 0.7407nm/mm
? 像素分辨率 0.005926nm
? 譜線范圍:130-800nm(可分析 N、Li、 Na、K 等元素)
智能控制系統(tǒng),再啟動(dòng)耗時(shí)行業(yè)*低
? 潮汐式?jīng)_洗方式,冷機(jī)啟動(dòng)只需 30min,熱機(jī)啟動(dòng)時(shí)間 5min
? 智能判斷分析間隔時(shí)間,合理補(bǔ)充氬氣,降低氬氣消耗
? 60ml/min 超低待機(jī)流量,一瓶氬氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天
分片式曝光,痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高,檢出限更低
? 一次激發(fā),分片曝光,同時(shí)采集,同時(shí)回?cái)?shù)
? 獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時(shí)間 提升痕量元素的強(qiáng)度,降低儀器的 檢出限
? 隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間,提升儀器的 穩(wěn)定性
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