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深圳市原速光電科技有限公司（Superald, LLC）是一家專注于原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）系統(tǒng)設(shè)計、工藝研發(fā)及技術(shù)咨詢的高科技企業(yè)，為半導體、柔性顯示、光學鍍膜、太陽能電池及鋰電池等領(lǐng)域的薄膜研發(fā)和生產(chǎn)提供優(yōu)質(zhì)的技術(shù)服務(wù)和一體化解決方案，致力打造全球一流的薄膜材料制備平臺。

工藝

可沉積薄膜種類和應(yīng)用場景包括：
? High-K介電材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
? 金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu) (Cu, WN, TaN, Ru, In);
? 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
? 生物醫(yī)學涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
?金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
? 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);
? 透明電學導體 (ZnO:Al, ITO);
? 光子晶體(ZnO, Ti02, Ta3N5);等