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納米砂磨機(jī)/納米研磨機(jī) PHN 10

PHN 10

直接聯(lián)系

廣東派勒智能納米科技股份有限公司

中國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

20-30萬(wàn)元

品牌:

派勒智能

型號(hào):

PHN 10

關(guān)注度:

16695

創(chuàng)新點(diǎn):

研磨方便,易清洗,可密閉,物料顆粒均勻度好。

應(yīng)用行業(yè):

化工 醫(yī)藥 食品 日化

典型用戶:

奎地、涂邦、力奧、中國(guó)船舶重工、海洋化工

產(chǎn)品介紹

派勒系列納米銷棒式砂磨機(jī)是PUHLER公司開發(fā)大流量循環(huán)臥式砂磨機(jī),為新型納米研磨設(shè)備產(chǎn)品, 能滿足各類面漆,納米產(chǎn)品對(duì)細(xì)度指標(biāo)的要求,產(chǎn)品粒度分布窄,PHN采用**縫隙分離器系統(tǒng),超大過(guò)濾面積,滿足了各類高檔面漆生產(chǎn)所需要的大流量多次研磨的要求。PHN 的流量是傳統(tǒng)砂磨機(jī)的幾倍,分離器不受磨損,使用壽命長(zhǎng)可以使用極小的研磨介質(zhì),也不會(huì)堵塞出料過(guò)濾器.
 
通過(guò)與華南理工建筑材料系,深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院精細(xì)化工系等高校戰(zhàn)略性合作實(shí)驗(yàn), 突破了噴墨墨水;氧化鋁;藥物等產(chǎn)品細(xì)度問題,通過(guò)第三方檢測(cè)報(bào)告*終產(chǎn)品細(xì)度可達(dá)納米級(jí)(<100nm)以下。
適合研磨極難分散的材料,經(jīng)過(guò)多次研磨,可達(dá)到徹底分散研磨的效果。
采取多種冷卻措施,散熱性能好,適合用于對(duì)溫度敏感的物料研磨。
產(chǎn)品質(zhì)量再現(xiàn)性好,粒徑頒布均勻,產(chǎn)品質(zhì)量不受循環(huán)流量的影響。


PUHLER全新型徑向研磨機(jī)在全球知名的研磨系統(tǒng)上做了進(jìn)一步的研發(fā)并取得**局批準(zhǔn),全封閉式,短/粗型的研磨腔設(shè)計(jì)元素,3:9之黃金分割比例的長(zhǎng)度/直徑/線速度系數(shù)比更佳,高能密度能量輸入,并將其**合理組合,為您提供更經(jīng)濟(jì)的濕法研磨技術(shù) 

新型徑向研磨機(jī)對(duì)于研磨大批量物料來(lái)說(shuō)是*為經(jīng)濟(jì)的選擇,相對(duì)于其它研磨設(shè)備,設(shè)備的投入與磨介的選擇成本都低。另外,該機(jī)型的優(yōu)點(diǎn)是可以得到比其他機(jī)型更細(xì)更窄的粒度分布,能夠連續(xù)處理大量的漿料,還可在研磨過(guò)程中隨時(shí)向預(yù)混缸內(nèi)加入物料組份,并且因?yàn)闈{料經(jīng)過(guò)研磨室的時(shí)間只有短短的15-25秒,所以可以得到精確的溫度控制。  
?   通過(guò)采用高效分離系統(tǒng)使得即使在非常高的流量下仍能保證研磨珠的安全分離,極大尺寸的筒式離心分離器篩網(wǎng)使得流動(dòng)阻力(即壓降)*?。?nbsp;
?    對(duì)于化妝品,制藥,食品和生化工程行業(yè),派勒PUHLER能夠提供完全用不銹鋼制造的磨機(jī)和一些特殊的裝置滿足客戶的特殊需要。以下是一些介紹如何滿足個(gè)別客戶的特殊需求的例子: 
?    機(jī)架采用不銹鋼,并用顆粒度160打磨處理 
?    機(jī)械密封液使用溶劑配置 
?    清洗液容器以及冷卻盤旋管及管接頭都采用不銹鋼 
?    與產(chǎn)品接觸的磨損部件材料是氧化鋯 
?    渦輪采用氧化鋯材質(zhì) 
?    產(chǎn)品進(jìn)口和出口采用快速加緊裝置連接 
?    冷卻回路能夠適應(yīng)從-15°C至 110°C的冷卻/加熱介質(zhì) 
?    探針式溫度表(PT 100)和壓力表 
?    水冷式的主電機(jī)

派勒全新型徑向研磨機(jī):主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細(xì)研磨及分散:
1) Color paste / Color filter / TFT LCD  :R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級(jí),透明度需超過(guò)90%,粘度控制在 5-15 CPS,含水率在1%以下。
2) Ink-jet Inks:顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級(jí),粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry:半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)


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納米砂磨機(jī)/納米研磨機(jī) PHN 10

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